Adsorpsi elektrostatik kipas ion
Dalam industri LCD, substrat kaca menjadi lebih besar dan kemampuan untuk menarik muatan juga ditingkatkan. Karena ukuran substrat yang besar, kontaminasi apa pun dapat menyebabkan penurunan hasil. Seperti industri pengontrol polusi lainnya, industri LCD telah mencari material baru yang dapat memecahkan masalah ESD. Bahan-bahan yang digunakan dalam cleanroom juga lebih cenderung menggunakan peniup ion antistatik, dan bahan-bahan baru dapat dicoba pada kapas dan lap bukan bahan tradisional.
Masalah terbesar dengan kontrol ESD di ruang bersih adalah pergerakan orang di ruang bersih. Karena orang memakai banyak kain poliester, mereka menghasilkan banyak muatan listrik. Satu-satunya cara untuk menghapus muatan ini di kamar yang bersih adalah dengan ground.
Dalam lima tahun terakhir, telah ditemukan bahwa sistem garmen yang terbuat dari campuran serat karbon dan kain menyediakan persyaratan ruang bersih untuk ISO 5 (Kelas 100).
Setiap bagian dari pakaian memiliki konduktivitas listrik yang sama dan memiliki koneksi konduktif secara elektrik dari kap ke sol. Orang-orang yang bekerja di ruangan yang bersih dapat berjalan melalui sol konduktif tanpa membumikan ketika mengenakan pakaian tersebut, sehingga mereka tidak dibatasi oleh panjang kawat tanah.
Munculnya pakaian kerja semacam itu adalah hasil dari permintaan tinggi pada produk, yang membantu mengurangi hasil rendah dan tingkat buruk yang tinggi yang disebabkan oleh masalah ESD di ruang bersih.
Tidak ada metode perbaikan yang murah dan cepat untuk kontrol kipas ion ESD. Kuncinya adalah mengontrol ESD, seperti kipas ion aliran laminar yang ditangguhkan, atau memasang kipas ion di sebelah bahan yang perlu mengontrol ESD. Ketika ukuran chip (IC) berkurang, ia menjadi lebih sensitif terhadap ESD. Sekarang, kontrol ESD tidak terbatas pada perlindungan jaringan kerja, tetapi juga kontrol wafer dan personel yang menghasilkan wafer. Banyak perusahaan dengan standar tinggi mengendalikan ESD dengan cara ini.
